英特爾全球投入80億實(shí)施45納米升級(jí)計(jì)劃
據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道，英特爾公司2月26日宣布，將投資10到15億美元對(duì)美國(guó)新墨西哥州的芯片廠進(jìn)行技術(shù)改造，以便能夠使用45納米工藝生產(chǎn)下一代電腦芯片。
英特爾這座芯片廠位于新墨西哥州的Rio Rancho。
在此輪技術(shù)改造完成之后，該工廠將于明年下半年開始轉(zhuǎn)移到45納米工藝。
英特爾公司此前已經(jīng)表示，將分別向美國(guó)亞利桑那州錢德勒和以色列的芯片廠投資30和35億美元，用于提升芯片廠工藝。
英特爾公司最近表示，仍將按照原定計(jì)劃在今年下半年采用45納米工藝生產(chǎn)芯片，而競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手AMD公司稍微落后一步，將在2008年年中推出45納米芯片。
芯片線寬和晶圓面積是半導(dǎo)體行業(yè)產(chǎn)業(yè)升級(jí)的兩個(gè)主要方向，更小的線寬意味著同一片晶圓可以產(chǎn)出更多的芯核，不僅成本降低，同時(shí)芯片的功耗也會(huì)降低。目前45納米線寬是半導(dǎo)體行業(yè)最先進(jìn)的制造工藝。
英特爾這座芯片廠位于新墨西哥州的Rio Rancho。
在此輪技術(shù)改造完成之后，該工廠將于明年下半年開始轉(zhuǎn)移到45納米工藝。
英特爾公司此前已經(jīng)表示，將分別向美國(guó)亞利桑那州錢德勒和以色列的芯片廠投資30和35億美元，用于提升芯片廠工藝。
英特爾公司最近表示，仍將按照原定計(jì)劃在今年下半年采用45納米工藝生產(chǎn)芯片，而競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手AMD公司稍微落后一步，將在2008年年中推出45納米芯片。
芯片線寬和晶圓面積是半導(dǎo)體行業(yè)產(chǎn)業(yè)升級(jí)的兩個(gè)主要方向，更小的線寬意味著同一片晶圓可以產(chǎn)出更多的芯核，不僅成本降低，同時(shí)芯片的功耗也會(huì)降低。目前45納米線寬是半導(dǎo)體行業(yè)最先進(jìn)的制造工藝。
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